DT News - Switzerland - Erfolgreicher zweiter ITI Kongress Schweiz

Majang Hartwig-Kramer, Quelle: ZWP online

Di. 26 Mai 2015

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BERN – Was bedeutet Erfolg in der Implantologie und wie gelingt es, Komplikationen zu vermeiden? Welche Techniken und Materialien sind Erfolg versprechend und wohin geht die Entwicklung? Diese Fragen beschäftigen wohl jeden implantologisch tätigen Zahnarzt. Der zweite ITI Kongress Schweiz widmete sich am 9. Mai in Bern dem Thema „Erfolg und Misserfolg“ in der Implantologie.

Prof. Dr. Nicola Zitzmann, Prof. Dr. Daniel Buser, Prof. Dr. Irena Sailer und Prof. Dr. Hans-Peter Weber hatten jeweils den Vorsitz der verschiedenen Sektionen inne. Im Eröffnungsbeitrag gab Prof. Dr. Niklaus Lang Antworten auf die Frage, wann wir in der Implantat-Zahnmedizin von „Erfolg“ sprechen können. Im Anschluss daran rückten Prof. Dr. Michael Bornstein und PD Dr. Karl Dula die präimplantologische radiologische Diagnostik in den Fokus.

In der zweiten Vormittagssektion referierten Dr. Rabah Nedir über „Sinusboden-Elevation in der Privatpraxis: Techniken und Lanzeitergebnisse“, Prof. Dr. Tara Renton über „Happiness is quiet nerves – Minimising and managing trigeminalnerve injuries in relation to dentistry“ und PD Dr. Daniel Thoma über „Langzeitresultate der periimplantären Gewebe: biologisch und ästhetisch“. Nach der Mittagspause gab PD Dr. Susanne S. Scherrer den Teilnehmern einen Überblick zu Zirkonoxid in der Prothetik und Prof. Dr. Urs Brägger sprach über die Vermeidung prothetischer Komplikationen. Am Nachmittag gingen auch die vier Schweizer Universitäten ins Rennen: Anhand einer Fallvorstellung präsentierten sie ihren Lösungsweg: Dr. Goran Benic für Zürich, Dr. Andreas Worni für Genf, Dr. Vivianne Chappuis für Bern und Dr. Dominik Mahl für Basel.

Begleitet wurde der ITI Kongress von einer direkt auf die Veranstaltung ausgerichtete Industrieausstellung. Interessenten fanden hier – nicht nur während der Pausen – kompetente Ansprechpartner. Mit an Sicherheit grenzender Wahrscheinlichkeit wird der Kongress so dazu beitragen haben, künftig Komplikationen und Misserfolge in der Implantologie zu vermeiden bzw. zu verringern.

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